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祝融(ZR) 系列管式PEALD/PECVD系统

    祝融(ZR5000×2)系列管式 PEALD 系统是微导纳米原创设计的祝融系列工业级等离子体增强原子层沉积(PEALD)技术,实现了超高产能的批量型 PEALD 镀膜,是 ALD 领域量产化技术又一次突破,专为接触钝化技术(TOPConHPBCPOLOSHJTBC)量身定制,为后 PERC 高效电池技术提供可靠的量产解决方案,引领光伏产业化高效电池制造。


    祝融系列(ZR5000×3)管式 PEALD 镀膜平台延伸祝融系列概念,一体式设计实现氮化硅正膜、背膜及氧化铝、氧化硅钝化膜一站式完成,或实现单道产能翻倍,节省占地面积;兼具先进的制造执行管理系统(MES)和自动导引车(AGV)对接功能。在提供超高产能的同时, 可最大程度降低设备的运营成本,为后 PERC 高效电池技术提供理想可靠的量产解决方案,引领光伏产业化高效电池制造。


    祝融系列(ZR5000×1)管式 PECVD 系统突破性解决传统管式 PECVD 的产能瓶颈,可与微导纳米 ALD 钝化技术无缝对接,确保 PERC/TOPCon/IBC/TBC 等高效电池生产。以先进技术和装备高度集成,形成高质量、高产能、低成本的产业化量产。 



    祝融系列(ZR5000×2)管式PEALD系统

    1、适用于 PERCTOPConIBCTBC 等高效电池技术路线的应用;

    2、优异的温度控制和等离子控制系统,可选择的 PECVD 同管工艺,搭配超高载片量的 PEALD 石墨舟设计,在确保设备产能的同时大幅提升电池转换效率;

    3、可精准制备薄膜厚度仅为0.5-1nm的隧穿氧化硅,同时兼容多种“二合一”材料与工艺,包括 Al2O3\SiNx, SiO2\poly-Si(i), poly-Si(n+), poly-Si(p+) 等;

    4、具备优异的薄膜厚度均匀性(片内4%,片间4%,批间3%);

    5、提供 TOPCon 量产工艺 PEALD/PECVD 路线集成技术,钝化接触技术所需原位掺杂浓度(1E20~1E21)可调。


     

    祝融系列(ZR5000×3)管式 PEALD 系统

    1、适用于 PERCTOPConIBCTBC 等高效电池技术路线的应用;

    2、搭配高载片量的石墨舟设计

    3、具备优异的薄膜厚度均匀性(片内4%,片间4%,批间3%);

    4、可精准制备薄膜:Al2O3\SiO2\poly-Si(i)\poly-Si(n+)\poly-Si(p+)\SiNx\SiC \SiON 等;

    5、具备优异的薄膜厚度均匀性(片内4%,片间4%,批间3%);

    6、提供 PERC/TOPCon 量产工艺 PEALD/PECVD 路线集成技术 。


     

    祝融系列(ZR5000×1)管式PECVD系统

    1、适用于 PERCPERLPERTTOPConIBCTBC 等高效电池技术的应用;

    2、优异的温度和等离子体控制系统与高载片量,辅助搭配 ALD 钝化薄膜,提升效率与降低生产成本;

    3、可精准制备 SiNxSiONxSiC、SiOx 等复合钝化膜,精准控制各层光学参数与厚度;

    4、具备优异的薄膜厚度均匀性(片内4%,片间4%, 批间3%)。


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