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iTomic MW系列批量式原子层沉积镀膜系统

    iTomic MW系列批量式原子层沉积镀膜系统采用创新的批量型(mini-batch)腔体设计,可一次处理2512英寸晶圆,适用于成膜镀率低,厚度要求高,以及产能要求高的关键工艺及应用。iTomic MW系列产品利用特有的流场设计,具有成膜速度快,占地面积小,产能高、使用成本低等优势,为先进存储芯片以及micro-LED显示器、MEMS等提供定制化量产的解决方案。

     

    1、2512寸晶圆(兼容8寸晶圆)MW ALD系统,适用于厚膜或生长率较低的工艺需求;

    2、提供优异的薄膜片内(WiW)和片间(WtW)均匀性,更好地满足先进制程工艺需求;

    3、薄膜材料:Al2O3HfO2ZrO2SiO2Ta2O5TiO2ZnOTiN等;

    4、与炉管型设备相比,MW ALD系列在减少颗粒度的同时大大降低了热过程,避免芯片器件在制程中的热损伤。



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